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专利名称：化合物、树脂、抗蚀剂组合物或辐射敏感组合物、
抗蚀图案形成方法、非晶膜的制造方法、光刻用下层膜形成材料、光刻用下层膜形成用组合物、电路图案的形成方法、以及纯化方法
专利类型：发明专利
发明人：樋田匠,清水洋子,牧野嶋高史,佐藤隆,越后雅敏申请号：CN201680052524.2申请日：20160908公开号：CN108137478A公开日：20180608
摘要：使用下述式(1)所示的化合物和/或包含该化合物作为构成成分的树脂。(式(1)中，R为碳数1～60的2n价基团或单键，R～R各自地为碳数1～10的直链状、支链状或者环状的烷基、碳数6～10的芳基、碳数2～10的烯基、碳数1～30的烷氧基、卤素原子、硫醇基、羟基或羟基的氢原子被酸解离性基团取代而成的基团，其中，选自R～R的至少1个为羟基的氢原子被酸解离性基团取代而成的基团，m和m各自地为0～8的整数，m和m各自地为0～9的整数，其中，m、m、m以及m不同时为0，n为1～4的整数，p～p各自地为0～2的整数。)
申请人：三菱瓦斯化学株式会社
地址：日本东京都
国籍：JP
代理机构：北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙)
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