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专利名称：一种利用液相剥离转移制备二硫化铼纳米片的方法专利类型：发明专利
发明人：秦敬凯,徐成彦,李洋,邵文柱,甄良申请号：CN201910779376.X申请日：20190822公开号：CN110372040A公开日：20191025
摘要：一种利用液相剥离转移制备二硫化铼纳米片的方法，涉及一种剥离转移制备二硫化铼纳米片的方法。本发明是要解决现有的化学气相沉积方法制备的二硫化铼薄膜在后继处理过程中出现的有机杂质吸附和氢氟酸污染的技术问题。本发明：一、多层ReS薄膜的制备；二、无水乙醇表面预处理；三、剥离转移。本发明利用外延生长ReS和云母基地的晶格失配残余应力和无水乙醇在ReS表面润湿力，无水乙醇可以在ReS膜层表面和层间充分润湿，从而产生润湿切应力，使得不同ReS层分离，实现了大面积单层ReS薄膜的制备和转移。
申请人：哈尔滨工业大学
地址：150001 黑龙江省哈尔滨市南岗区西大直街92号
国籍：CN
代理机构：哈尔滨市松花江专利商标事务所
代理人：岳泉清
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